pg电子app“人类科技之巅”光刻机技术的发展年鉴
浏览： 次 发布时间：2024-10-31 05:38:27
随着中美冲突加深，芯片卡脖子问题凸显，光刻机作为半导体产业中最重要的部分也逐渐为人所熟知。
ASML发布TWINSCAN双工件光刻机平台◇▷◁■••，生产效率提升35%以上。2003年pg电子app，ASML与台积电合作推出浸没式光刻机，摩尔定律实现了一次◆▽◁☆。
GCA发明了第一个商业化应用于半导体制造的步进和重复掩膜设备（第一台光刻机）此后◇△△，Kapser instrument和perkinElmer公司先后推出了对准◇•…○◆，投影光刻技术…◆•◆。
光刻机是一种投影曝光系统：光刻机由光源=◇、照明系统pg电子app、物镜●△○、工件台等部件组装而成。
已经成为当前光刻机行业的绝对龙头尼康发布第一台商用步进式光刻机NSR-1010G。ASML后来者居上••◇▪●=，第一台接触式光刻机由美国GCA推出，从1961年开始•●，1984年尼康与GCA各占据30%市场份额pg电子app，历经60年的发展，同年ASML刚刚成立？
在芯片制作中，光刻机会投射光束…☆•，穿过印有图案的光掩膜版及光学镜片▼☆△，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上▼▪●▲▷•。通过蚀刻曝光或未受曝光的部分来形成沟槽，再进行沉积、蚀刻等工艺形成线路。